MARC details
| 000 - LÍDER |
| campo de control de longitud fija |
01699nam a2200337Ia 4500 |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN |
| campo de control |
20250717174533.0 |
| 008 - ELEMENTOS DE DATOS DE LONGITUD FIJA - INFORMACIÓN GENERAL |
| campo de control de longitud fija |
0000001994 cu ad 0000000000spa00 |
| 040 ## - FUENTE DE CATALOGACIÓN |
| Agencia de transcripción |
..... |
| 041 ## - CÓDIGO DE LENGUAJE |
| Código de idioma de texto / pista de sonido o título separado |
spa |
| 082 04 - NÚMERO DE CLASIFICACIÓN DECIMAL DEWEY |
| Número de clasificación |
709.97291 U54u 1994 |
| 090 ## - NÚMERO DE LLAMADA DE TIPO LC LOCALMENTE ASIGNADO (OCLC) |
| Número de clasificación (OCLC) (R) |
701.18 B32lh |
| 245 10 - TÍTULO DECLARACIÓN |
| Título |
Una brecha entre el cielo y la tierra / |
| Declaración de responsabilidad |
V Bienal de la Habana ; curaduría Nieves Machado Nuñez, Zoila Albóniga Jesús, Tania Brugueras |
| 260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN |
| Lugar de publicación |
La Habana : |
| Nombre del editor |
Galería Luz y Oficios, |
| Fecha de publicación |
1994. |
| 300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA |
| Alcance |
[48] páginas : |
| Dimensiones |
28 cm. |
| 500 ## - NOTA GENERAL |
| Nota general |
Exposición realizada en Galería Luz y Oficios, La Habana, mayo a junio de 1994 |
| 501 ## - Con nota |
| Con nota |
Perturbación, hermana mía / Lupe Alvarez Antonia Eiriz ; artista invitada / Roberto Fernández Retamar |
| 505 ## - NOTA DE CONTENIDO FORMATEADA |
| Nota sobre el contenido formateado |
ARTISTAS : Lidzie Alvies. -- Belkis Ayón. -- Jacqueline Brito. -- Tania Bruguera. -- Amelia Carballo. -- Sandra Ceballos. -- Flora Fong. -- Aimée García. -- Rocío García de la Nuez. -- Inés Garrido. -- Isabel de las Mercedes. -- Elsa Ma. Mora. -- Isary Paulet. -- Zaida del Rio. -- Isabel Santos. |
| 610 #4 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - NOMBRE CORPORATIVO |
| 9 (RLIN) |
26980 |
| Nombre corporativo o nombre de jurisdicción como elemento de entrada |
Galería Luz y Oficios |
| Subdivisión geográfica |
La Habana, Cuba |
| 611 #0 - ASUNTO AGREGADO ENTRADA - NOMBRE DE LA REUNIÓN |
| 9 (RLIN) |
33626 |
| Nombre de la reunión o nombre de la jurisdicción como elemento de entrada |
5ª Bienal de La Habana |
| Lugar de la reunión |
La Habana, Cuba |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Arte contemporáneo cubano |
| 9 (RLIN) |
29468 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Artistas plásticos cubanos |
| Subdivisión cronológica |
Siglo XX |
| 9 (RLIN) |
29957 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Dibujo cubano |
| Subdivisión cronológica |
Siglo XX |
| 9 (RLIN) |
30571 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Escultura contemporánea cubana |
| 9 (RLIN) |
31680 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Fotografía cubana |
| Subdivisión cronológica |
Siglo XX |
| 9 (RLIN) |
31035 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Grabado cubano |
| Subdivisión cronológica |
Siglo XX |
| 9 (RLIN) |
31259 |
| 650 14 - ENTRADA DE SUJETO AÑADIDO - TÉRMINO TÓPICO |
| Término tópico o elemento de entrada del nombre geográfico |
Pintura contemporánea cubana |
| 9 (RLIN) |
31996 |
| 700 1# - ENTRADA AGREGADA - NOMBRE PERSONAL |
| Numeración |
¡ |
| 700 ## - ENTRADA AGREGADA - NOMBRE PERSONAL |
| Nombre de la persona |
Bruguera, Tania, |
| 9 (RLIN) |
15415 |
| Fechas asociadas a un nombre |
1968- |
| 700 ## - ENTRADA AGREGADA - NOMBRE PERSONAL |
| Nombre de la persona |
Fernández Retamar, Roberto |
| 9 (RLIN) |
3773 |
| 942 ## - ELEMENTOS DE ENTRADA AGREGADOS (KOHA) |
| Fuente de clasificación o esquema de estanterías |
Dewey Decimal Classification |
| Tipo de artículo Koha |
Catalogo de exposición |